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發(fā)布時間:2023/11/23

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冷卻器的化學拋光簡介

 通過這一段時間的了解,相信大家對冷卻器已經(jīng)是不陌生了,但對于想進一步了解本產(chǎn)品的相關(guān)知識的客戶來說這些內(nèi)容還是不夠的。今天小編就將關(guān)于冷卻器化學拋光方面的知識與大家分享一下,希望引起大家的重視,讓大家對冷卻器有一個深層次的了解。這樣大家在購買使用冷卻器時也能做到心中有數(shù),不慌不忙,希望對大家有所啟發(fā)與幫助。冷卻器的化學拋光是通過金屬在化學介質(zhì)中的氧化還原反應(yīng)而達到整平拋光的目的。其優(yōu)點是化學拋光與金屬的硬度、拋光面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān),凡與拋光液接觸的部位均被拋光,不須特殊復(fù)雜設(shè)備,操作簡便,較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光。但化學拋光的工藝參數(shù)較難控制,要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光效果。較好的鈦化學拋光液是HF和HNO3 按一定比例配制,HF是還原劑,能溶解鈦金屬,起到整平作用,濃度<10%, HNO3起氧化作用,防止冷卻器鈦的溶解過度和吸氫,同時可產(chǎn)生光亮作用。鈦拋光液要求濃度高,溫度低,拋光時間短(1~2min.)。
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